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2013年03月15日

The Foundry社、次世代レイヤーを搭載した Mari 2.0 をリリース!

 
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MARI 2.0 発表!

次世代レイヤーの搭載

最新のレイヤーシステムの導入により、MARIは今まで以上、さらに覚えやすくて使い勝手の良いものになりました。

私たちは、既存で最も高機能なレイヤーシステムからアーティストが期待する全機能を新しいレイヤーシステムに搭載するため、時間を掛けてデジタルペインターと話し合ってきました。

弊社の開発者は、そこで止めませんでした。MARI 2.0では、プロシージャル レイヤーやマスク グループおよび共有レイヤーを利用して、レイヤーを完全に新しいレベルに持っていきます。

 

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マスク グループ -
MARI 2.0 では、1つのレイヤーにつき単一マスクではなく、各レイヤーのマスクは、独自の完全なレイヤースタックとなります。アーティストは、マスクのブレンド、グループ、調整、プロシージャルを使用して、より柔軟で非破壊的なワークフローを持つことができます。

 

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共有レイヤー -
アーティストが、いつどのようにしてレイヤーまたはマスクを再利用していたかを追跡・確認するのに、時間を費やすべきではないと考えます。MARI 2.0 では、独特のレイヤーの概念、すなわち共有レイヤーを導入し、アーティストがより多くの時間をペイントに費やすことができるようにします。共有レイ ヤーは、同スタックの中に複数表示されるレイヤー、あるいはスタック間で共有されるレイヤーであり、これは使用するたびに自動的に即座に更新されます。

 

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能率化されたレイヤー ビュー -
強力なグループ化、タグ、およびフィルタリング オプションを組み込み、MARI 2.0 のレイヤー ビューは、非常に複雑なスタックでも簡単に操作し制御することを可能にします。

 

 

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保守が有効なお客様は、こちらからMARI 2.0 をダウンロードできます(英語サイト)。

保守更新をご希望のお客様は、こちらまでご連絡ください。

 

>> その他、The Foundry社製品についてはこちら

投稿者 INDYZONE : 2013年03月15日 21:24

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